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產(chǎn) 品 詳 情
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ITO激光刻蝕機(jī),由激光對(duì)ITO Glass和ITO Film上的ITO鍍膜實(shí)施電極刻蝕加工的精密設(shè)備。可在PET基底上ITO鍍膜、導(dǎo)電銀漿、玻璃、多晶膜和其他氧化物薄膜上大范圍內(nèi)進(jìn)行各種圖案,多種尺寸的精密、高速刻蝕。按不同產(chǎn)品的工藝要求,設(shè)備能精確刻蝕掉一層或多層鍍膜,實(shí)現(xiàn)無(wú)殘留和導(dǎo)電性要求,廣泛應(yīng)用于材料、電池研究及軍工科研行業(yè),是材料及新能源研究上有力的科研手段。
ITO激光刻蝕機(jī),由激光對(duì)ITO Glass和ITO Film上的ITO鍍膜實(shí)施電極刻蝕加工的精密設(shè)備。可在PET基底上ITO鍍膜、導(dǎo)電銀漿、玻璃、多晶膜和其他氧化物薄膜上大范圍內(nèi)進(jìn)行各種圖案,多種尺寸的精密、高速刻蝕。按不同產(chǎn)品的工藝要求,設(shè)備能精確刻蝕掉一層或多層鍍膜,實(shí)現(xiàn)無(wú)殘留和導(dǎo)電性要求,廣泛應(yīng)用于材料、電池研究及軍工科研行業(yè),是材料及新能源研究上有力的科研手段。
規(guī)格型號(hào):HS-UVET1000
一、設(shè)備總體:
1、該設(shè)備紫外激光機(jī)采用紫外激光器和高速掃描系統(tǒng)。具備以下優(yōu)點(diǎn):
(1)設(shè)備性能穩(wěn)定、可靠性高
(2)激光器壽命長(zhǎng)、可24小時(shí)連續(xù)工作,使用維護(hù)成本低
(3)重復(fù)精度和定位精度高
(4)刻蝕速度快,不產(chǎn)生任何對(duì)環(huán)境和人體有害的化學(xué)物質(zhì),是環(huán)保型刻蝕方式
(5)操作簡(jiǎn)便、應(yīng)用領(lǐng)域廣泛、適應(yīng)多種材料的刻蝕
(6)專(zhuān)用刻蝕軟件功能強(qiáng)大
6.1 WINDOWS界面全中文操作系統(tǒng),兼容PHOTOSHOP,CORELDRAW,AUTOCAD等多種繪圖軟件格式
6.2 由于控制主機(jī)直接采用計(jì)算機(jī),具有強(qiáng)大的通訊能力,可連接數(shù)據(jù)系統(tǒng),滿足功能擴(kuò)展需求
6.3 能夠?qū)崿F(xiàn)輸出線條、圖形、矢量文件等,基于Windows界面下可實(shí)現(xiàn)任意圖形、文字、數(shù)字混排并一次性完成。
二、主要技術(shù)參數(shù):
1、激光功率:額定輸出光功率大于等于3W
2、激光波長(zhǎng):355nm
3、聚焦光斑:<0.01mm
4、頻率調(diào)節(jié)范圍:20-200KHz
5、刻蝕線寬:<20μm
6、刻蝕速度:3600mm/s
7、刻蝕精度:±0.01mm
8、刻蝕軟件:專(zhuān)用激光刻蝕軟件,操作簡(jiǎn)單,成熟穩(wěn)定。 可處理文件格式 DXF、PLT、Ai、Gerber等文件